上海思峻機械設備有限公司
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| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號GMD2000
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
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更新時間：2019-04-11 16:32:49瀏覽次數(shù)：590次
聯(lián)系我時，請告知來自 泵閥商務網(wǎng)醫(yī)藥混懸液新創(chuàng)型膠體磨注射液改進型膠體磨是將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改進，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改進成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。
一、產(chǎn)品名稱概述：醫(yī)藥混懸液新創(chuàng)型膠體磨，醫(yī)藥混懸液改進型膠體磨,醫(yī)藥混懸液改良型膠體磨,醫(yī)藥混懸液膠體磨,醫(yī)藥懸浮液膠體磨,SGN改進型膠體磨
二、醫(yī)藥混懸液的定義
混懸液是指： 以固體顆粒分散于分散媒中，顆粒與分散媒之間有相界面，稱為混懸液。
混懸液為不溶性固體藥物微粒分散在液體分散媒中形成的非均相體系，可供口服、局部外用和注射。
三、優(yōu)進的混懸劑應符合一定的質(zhì)量要求
1、外觀粒子應細膩，分散均勻、不結塊。
2、粒子的沉降速度慢，沉降容積比F越大，混懸劑越穩(wěn)定。
3、顆粒沉降后，經(jīng)振搖易再分散，以保證均勻，分劑量準確。由于在重力作用，混懸液中微粒在靜置時會發(fā)生沉降，其沉降速度遵循stokes定律。減少顆粒半徑，增加分散的粘度可降低顆粒的沉降速度。在實際工作中，常用中液研磨法制備混懸液以減小固體分散相粒徑，并加入助懸劑等穩(wěn)定劑以增加分散介質(zhì)的粘度，降低沉降速度和增加穩(wěn)定性。
四、醫(yī)藥混懸液的研磨細化
混懸液的生產(chǎn)工藝中，有一個重要環(huán)節(jié)，就是對混懸液進行研磨分散細化，細化的程度決定了混懸液的品質(zhì)，穩(wěn)定性以及藥性的發(fā)揮。采用SGN改進型膠體磨一般可將混懸液粒徑細化至DN90≤5μm，并且粒徑分布更窄，混懸液均勻度更高，更有效的發(fā)揮藥效。
若要制得沉降緩慢的混懸液，應減少顆粒的大小，增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。
納米醫(yī)藥混懸液分散機，高剪切條件下的混懸液，高速通過工作腔定轉(zhuǎn)子間隙，由于轉(zhuǎn)子高速轉(zhuǎn)動，物料在定轉(zhuǎn)子間隙內(nèi)，高速撞擊、剪切等綜合效應，將較大的顆粒粉碎成很小的微粒，它們的直徑在0.01-2μm范圍內(nèi)。這個純粹的物理過程保持產(chǎn)品原有的活性，與此同時，細化了顆粒，獲得相對穩(wěn)定的混懸液。
五、醫(yī)藥混懸液改良型膠體磨的特點
1、注射液改進型膠體磨是將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改進，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改進成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改進型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成。
2、改進型膠體磨，簡單的來講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機，合二為一了。同時具備膠體磨和分散機的功能，并且減少了膠體磨和分散機串連后的，時間差因素。從成本上來講，原先兩臺設備的價格，現(xiàn)在用一臺研磨分散機就可以完成，性價比更高。
3、全新的設計理念，超高設備剪切力，以及穩(wěn)定的設備運行，SGN為廣大企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)的設備服務！
六、改進型膠體磨參數(shù)表
產(chǎn)品型號 | GMD2000/4 | GMD2000/5 | GMD2000/10 |
品牌 | SGN/思峻 | ||
電機功率（kw） | 4 | 11 | 22 |
處理量（L/H） | 400 | 1500 | 4000 |
主軸轉(zhuǎn)速（rpm） | 14000 | 10500 | 7300 |
線速度（m/s） | 44 | ||
分散盤直徑 | 55 | 75 | 115 |
進出口尺寸 | DN25/DN15 | DN40/DN32 | DN80/DN65 |
外形尺寸 | 450*350*750 | 624*350*1177 | 930*400*1233 |
與物料接觸部分材質(zhì) | 316L | ||
工作方式 | 高速剪切 | ||
速度類型 | 無級變速 | ||
變速方式 | 變頻變速 | ||
產(chǎn)品類型 | 全新 | ||
適用物料 | 乳液、混懸液、漿料等 | ||
應用行業(yè) | 食品、化工、醫(yī)藥、化妝品、能源、石油等 | ||
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